近日發(fā)布的《全球專利創(chuàng)新活動研究報告2016》顯示，中國已成為僅次于美國的專利布局目標市場。日本、美國高度關注中國市場，兩國在華授權發(fā)明專利份額約占整個中國市場授權量的1/5。
該報告對2008年至2015年全球專利創(chuàng)新活動進行了系統(tǒng)梳理，并對世界主要科技發(fā)達國家的技術創(chuàng)新活動進行了對比研究和分析。報告指出，2008年至2015年，中國發(fā)明專利公開量和授權量年均增長率分別為20.97%與22.48%，中國國內的技術創(chuàng)新強勢推動了全球專利技術創(chuàng)新的增長勢頭。
報告顯示，2012年至2015年，在世界知識產權組織劃分的35個技術領域中，中國在測量、有機精細化學等13個技術領域中的發(fā)明專利授權量位居第一。
報告指出，在成為僅次于美國的全球第二大專利布局目標市場的形勢下，我國的專利技術創(chuàng)新仍面臨挑戰(zhàn)，專利數(shù)量與質量不協(xié)調、專利技術創(chuàng)新的區(qū)域發(fā)展不平衡等難題亟待解決。報告為我國市場的專利技術創(chuàng)新活動提出參考建議：一是堅持政策扶持和戰(zhàn)略引領，提升我國技術創(chuàng)新質量；二是鼓勵各地基于地區(qū)優(yōu)勢有針對性地進行技術創(chuàng)新和專利布局；三是提倡產業(yè)界和學界深入交流和合作研發(fā)，共同推進專利產學研結合；四是優(yōu)化新形勢下我國專利信息工作，為專利技術創(chuàng)新提供支撐。
《全球專利創(chuàng)新活動研究報告》是國家知識產權局“基于專利信息全球技術創(chuàng)新活動研究”專題課題組的重大研究成果，自2014年首次發(fā)布以來，為了解和掌握全球主要國家特別是中國的專利創(chuàng)新活動提供了重要參考。（來源：國家知識產權局）