日本局專利申請量統(tǒng)計(jì)：
日本局專利授權(quán)量統(tǒng)計(jì)：
五局及其他國家在日本提出的發(fā)明專利申請量統(tǒng)計(jì)（除日本本國申請）：
五局及其他國家在日本提出的外觀專利申請量統(tǒng)計(jì)（除日本本國申請）：
2022年日本局發(fā)明OA1平均下發(fā)周期及平均審查周期：
2022年，日本發(fā)明專利申請從提出實(shí)審請求至第一次審查意見下發(fā)的平均周期（即，OA1平均下發(fā)周期）已縮短至10個(gè)月，而加速途徑下（包括PPH）的OA1平均下發(fā)周期為2.3個(gè)月；
2022年，日本發(fā)明專利申請從提出實(shí)審請求至授權(quán)決定下發(fā)的平均周期（即，平均審查周期）已縮短至14.7個(gè)月，其中包括撤回申請、放棄申請的數(shù)據(jù)，不包括加速途徑下的專利申請，延期答復(fù)的申請以及因修改被駁回而需要答復(fù)OA2的申請。
2022年日本局外觀OA1平均下發(fā)周期及平均審查周期：
2022年，日本外觀專利申請從提出專利申請至第一次審查意見下發(fā)的平均周期（即，OA1平均下發(fā)周期）已縮短至6個(gè)月，而加速途徑下的OA1平均下發(fā)周期為1.9個(gè)月；
2022年，日本外觀專利申請從提出專利申請至授權(quán)決定下發(fā)的平均周期（即，平均審查周期）已縮短至7個(gè)月，其中不包括海牙協(xié)定下指定日本的國際外觀注冊申請以及因修改被駁回而需要答復(fù)OA2的申請。
2021年五局發(fā)明OA1平均下發(fā)周期及平均審查周期對比：（單位：月）
近三年五局發(fā)明授權(quán)率對比：（單位：百分比）
前10大日本國內(nèi)企業(yè)發(fā)明專利注冊量：
前10大日本境外企業(yè)發(fā)明專利注冊量：
前10大日本國內(nèi)企業(yè)外觀設(shè)計(jì)注冊量：
前10大日本境外企業(yè)外觀設(shè)計(jì)注冊量：
